随着科技水平的发展，氧化物靶材作为高科技材料中的一种近年来发展迅速。根据其离子组成的不同，大致可以分为简单氧化物以及复杂氧化物。氧化物靶材的用途又有哪些呢？通常情况下会通过物理溅射的方法来制备高质量的氧化物薄膜。

氧化物靶材的根据不同离子的组合，种类众多。本文专业于靶材研发生产的南京皮埃路围绕PbZr1-xTixO3陶瓷靶材为大家介绍其制备方法以及参数内容。在此之前，我们首先了解一下氧化物的主要分类吧。

金属氧化物是含有氧离子和一种或多种金属离子的化合物。氧化物种类非常丰厚，地球上包括岩石在内的绝大多数物质都是由氧化物构成。化学式中含有一种金属离子和氧原子的化合物即简单金属氧化物，比如：Al2O3、Bi2O3、Co2O3等等。化学式中含有多种金属离子和氧离子的化合物即复杂氧化物，比如：SrRuO3、BiFeO3、PbTiO3、Sr2IrO4、Sr2RuO4、ZrSiO4、LaSrCuO4、LiFePO4、Bi2FeCrO6、Sr3Al2O6、La2MnNiO6、Bi4Ti3O12、BiLaTi3O12、Y3Fe5O12、BiLaTi3O12、BiTiHfO12、BiTiNbO12等等

1. 陶瓷靶材制备方法：采用99.95%纯度PbO和TiO2粉末, 按化学计量比配料，球磨5至8小时后混合均匀，在大于800度通过快速固相烧结方法制备陶瓷靶材。

2. 陶瓷靶材规格：单一结构相；直径20至50毫米，厚度3至6毫米，高质量的PbZr1-xTixO3靶材价格通常在2000元及以上。

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皮埃路电子自成立以来，始终秉承客户至上，质量至上的理念，根据客户的要求生产稳定可靠的靶材产皮埃路电子技术有限公司是南京政府321项目资助的高科技公司，由新加坡南洋理工大学、南京理工大学、南京航空航天大学和南京大学的几位教授负责技术指导。我们乐意为您定制高纯、高密度的溅射靶材，方便您进一步通过磁控溅射、脉冲激光沉积（PLD）系统制备高质量的薄膜。

如果您希望研究一种目前尚未存在的单晶薄膜，您可以自己设计组分，我们会为您量身定做专用的氧化物陶瓷靶材、也可以组织专家学提供薄膜生长方面的建议。我们也可以通过的磁控溅射或PLD为您定做相应的薄膜，甚至进行XRD、SEM和AFM检测。在您提出需求和签订合同之后，我们将在3-5周内为您提供专用的高质量靶材。我们的每个靶材的原材料纯度都保证在99.9%以上，部分靶材的原材料纯度可以实现99.99%。靶材价格是由原材料和加工难度决定的，具体费用请拨打吸顶悬浮的电话联系咨询！