磁控溅射靶材便是生长高质量薄膜的第一要素，为什么会这么说呢？众所周知，目前工业上应用最为广泛的物理气相沉积莫过于磁控溅射，可以进行大面积的、均匀薄膜的制备，而采用磁控溅射技术制备薄膜时，靶材的质量常常成为决定薄膜质量的重要因素，故有磁控溅射靶材便是生长高质量薄膜的第一要素这样的说法。下面我们主要要和大家分享的相关内容是：先了解磁控溅射的原理，然后就可以通过其技术手段制备出各种功能薄膜。

磁控溅射的工作原理是指电子在电场的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar正离子和新的电子；新电子飞向基片，Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子会受到电场和磁场作用，约束在靶材表面附近，延长了其在等离子体中的运动轨迹，增加电子运动的路径，提高电子与气体分子的碰撞几率和电离过程。

本文以皮埃路电子技术有限公司生产的Ga₂O₃陶瓷靶材为例，为大家具体讲述该靶材的制备方法和规格参数。

1.陶瓷靶材制备方法：采用99.99%纯度的Ga₂O₃粉末等静压压制靶材，在1000度以上高温下通过固相烧结法制备陶瓷靶材。

2.陶瓷靶材规格：经过X射线验证为单一结构相；靶材直径20至50毫米且厚度3至6毫米，尺寸可以根据客户要求定制，高质量的Ga₂O₃靶材价格通常³2000元。

如有想要购买磁控溅射靶材的客户，欢迎咨询皮埃路电子技术有限公司。

皮埃路电子自成立以来，始终秉承客户至上，质量至上的理念，根据客户的要求生产稳定可靠的靶材产品。皮埃路电子技术有限公司是南京政府321项目资助的高科技公司，由新加坡南洋理工大学、南京理工大学、南京航空航天大学和南京大学的几位教授负责技术指导。我们乐意大家您定制高纯、高密度的溅射靶材，方便您进一步通过磁控溅射、脉冲激光沉积（PLD）系统制备高质量的薄膜。

如果您希望研究一种目前尚未存在的单晶薄膜，您可以自己设计组分，我们会为您量身定做专用的氧化物陶瓷靶材、也可以组织专家学提供薄膜生长方面的建议。我们也可以通过的磁控溅射或PLD为您定做相应的薄膜，甚至进行XRD和SEM、AFM检测。在您提出需求和签订合同之后，我们将在3-5周内为您提供专用的高质量靶材。我们的每个靶材的原材料纯度都保证在99.9%以上，部分靶材的原材料纯度可以实现99.99%。另外靶材价格是由原材料和加工难度决定的，具体费用请拨打吸顶悬浮的电话联系咨询！