众所周知，靶材材料的技术发展趋势是与下游应用产业的薄膜技术发展趋势息息相关的，随着应用产业在薄膜产品或者原件上的技术改进，靶材技术也应随之变化。下面主要要给大家介绍的是什么是陶瓷靶材？陶瓷靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤破坏效应。为了得到功能良好的薄膜，单相结构的陶瓷靶材的生产显得尤为重要。

以皮埃路电子技术有限公司生产的Sr₂IrO₄陶瓷靶材为例为大家介绍一下其特点以及制备方法。

1.陶瓷靶材制备方法：采用99.95%纯度SrCO₃、99.9%以上纯度 IrO₂粉末, 按化学计量比配料，球磨5至8小时后混合均匀，在大于1100度和高压下通过热压烧结制备靶材。

2.陶瓷靶材规格：单一结构相；直径20至50毫米，厚度3至6毫米，由于Ir金属特别昂贵，Sr₂IrO₄靶材价格通常³1.2万元。

如果您希望研究一种目前尚未存在的单晶薄膜，您可以自己设计组分，我们会为您量身定做专用的氧化物陶瓷靶材、也可以组织专家学提供薄膜生长方面的建议。我们也可以通过的磁控溅射或PLD为您定做相应的薄膜，甚至进行XRD和SEM、AFM检测。在您提出需求和签订合同之后，我们将在3-5周内为您提供专用的高质量靶材。我们的每个靶材的原材料纯度都保证在99.9%以上，部分靶材的原材料纯度可以实现99.99%。另外靶材价格是由原材料和加工难度决定的，具体费用请拨打吸顶悬浮的电话联系咨询！

有关单相陶瓷靶材的用途详细介绍大致如上所述，如有想要购买单相陶瓷溅射靶材的客户，欢迎咨询皮埃路电子技术有限公司。皮埃路电子自成立以来，始终秉承客户至上，质量至上的理念根据客户的要求生产稳定可靠的靶材产品。皮埃路电子技术有限公司是南京政府321项目资助的高科技公司，由新加坡南洋理工大学、南京理工大学、南京航空航天大学和南京大学的几位教授负责技术指导。我们乐意为您定制高纯、高密度的溅射靶材，方便您进一步通过磁控溅射及脉冲激光沉积（PLD）系统制备高质量的薄膜。