随着时代的发展，各行各业对溅射靶材的需求越来越高，由于不同的企业或科研单位有着自己的溅射系统，需要根据自己的需求进行专业的溅射靶材的定制，然而目前市面上提供专业定制的靶材公司还比较少。

什么是溅射镀膜？溅射镀膜是以一定能量的粒子（离子或中性原子、分子）轰击固体表面，使固体近表面的原子或分子获得足够大的能量而最终逸出固体表面，吸附在所需衬底上形成薄膜，常规的溅射方法有磁控溅射和脉冲激光沉积法这两种。磁控溅射是通过被电离的Ar离子轰击靶材，使靶材表面区域部分气化然后沉积到衬底上，所需靶材的尺寸较大，通常在50mm左右；而脉冲激光沉积法则是通过高能脉冲激光来气化靶材，被聚焦的激光作用区域很小，因此对靶材尺寸要求较小，通常在20-30mm。

下面以皮埃路电子技术有限公司生产的BaTiO₃陶瓷靶材为例，为大家具体讲述其制备方法和规格参数。

1.陶瓷靶材制备方法：采用99.99%纯度TiO₂以及99.99%纯度BaCO₃粉末，按化学计量比配料，球磨混合均匀，1000℃预合成后，在大于1100度下通过常压烧结制备靶材。

2.陶瓷靶材规格：单一结构相；直径20至50毫米，厚度3至6毫米，尺寸可以根据客户要求定制，高质量的BaTiO₃陶瓷靶材价格通常³2000元。

如有想要购买定制溅射靶材的客户，欢迎咨询皮埃路电子技术有限公司。

皮埃路电子自成立以来，始终秉承客户至上，质量至上的理念，根据客户的要求生产稳定可靠的靶材产品，皮埃路电子技术有限公司是南京政府321项目资助的高科技公司，由新加坡南洋理工大学、南京理工大学、南京航空航天大学和南京大学的几位教授负责技术指导。我们乐意为大家定制高纯、高密度的溅射靶材，方便您进一步通过磁控溅射、脉冲激光沉积（PLD）系统制备高质量的薄膜。

如果您希望研究一种目前尚未存在的单晶薄膜，您可以自己设计组分，我们会为您量身定做专用的高纯溅射靶材、也可以组织专家学提供薄膜生长方面的建议。我们也可以通过的磁控溅射或PLD为您定做相应的薄膜，甚至进行XRD及SEM、AFM检测。在您提出需求和签订合同之后，我们将在3-5周内为您提供专用的高质量靶材。我们的每个靶材的原材料纯度都保证在99.9%以上，部分靶材的原材料纯度可以实现99.99%。另外靶材价格是由原材料和加工难度决定的，具体费用请拨打吸顶悬浮的电话联系咨询！