伴随着科技不断发展，国内靶材的生产研发水平也在逐渐提高着。高纯溅射靶材作为其中一种，凭借其优异的性能受到广大用户的青睐。高纯溅射靶材哪家供应？是很多用户一直以来比较关注的问题，专注于靶材研发生产的南京皮埃路总结了相关内容和大家分享。

溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子在真空中经过加速聚集，形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。溅射沉积薄膜的源材料即为靶材。用靶材溅射沉积的薄膜致密度高，附着性好。

高纯溅射靶材种类繁多，以皮埃路电子技术有限公司生产的Ga₂O₃陶瓷靶材为例，为大家具体讲述它的参数规格和制备方法。

1.陶瓷靶材制备方法：采用99.99%纯度的 Ga₂O₃粉末，等静压压制靶材，在1000度以上通过固相烧结制备靶材。

2.陶瓷靶材规格：单一结构相；直径20至50毫米，厚度3至6毫米，高质量Ga₂O₃靶材价格通常³2千元。

想要购买高纯溅射靶材的客户，欢迎咨询皮埃路电子技术有限公司。

皮埃路电子自成立以来，始终秉承客户至上，质量至上的理念，根据客户的要求生产稳定可靠的靶材产品。皮埃路电子技术有限公司是南京政府321项目资助的高科技公司，由新加坡南洋理工大学、南京理工大学、南京航空航天大学和南京大学的几位教授负责技术指导。我们乐意大家您定制高纯、高密度的溅射靶材，方便您进一步通过磁控溅射、脉冲激光沉积（PLD）系统制备高质量的薄膜。

如果您希望研究一种目前尚未存在的单晶薄膜，您可以自己设计组分，我们会为您量身定做专用的氧化物陶瓷靶材、也可以组织专家学提供薄膜生长方面的建议。我们也可以通过的磁控溅射或PLD为您定做相应的薄膜，甚至进行XRD和SEM、AFM检测。在您提出需求和签订合同之后，我们将在3-5周内为您提供专用的高质量靶材。我们的每个靶材的原材料纯度都保证在99.9%以上，部分靶材的原材料纯度可以实现99.99%。另外靶材价格是由原材料和加工难度决定的，具体费用请拨打吸顶悬浮的电话联系咨询！