在晶圆制造环节，靶材主要用于执着晶圆导电层、阻挡层以及金属栅极，而且在芯片封装环节，靶材用来生成凸点下金属层、布线层等金属材料。由于陶瓷靶材的品质直接影响导电层、阻挡层的均匀程度及性能，进而影响芯片传输速度及稳定性，因此靶材是半导体生产的核心原材料之一。

随着现代科学和技术的发展，薄膜科学已成为近年来迅速发展的学科领域之一，是凝聚态物理学和材料科学的一个重要研究领域。功能薄膜是薄膜研究的主要方面，它不仅具有丰富的物理内涵，而且在微电子、光电子、超导材料等领域具有十分广泛的应用。

脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition，PLD），也被称为脉冲激光烧蚀（pulsed laser ablation，PLA），是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，通过更换不同的靶材，即可得到不同的膜系，因此靶材的纯度和质量对于薄膜的质量具有重要的影响，在靶材的研发生产中，高纯陶瓷靶材由于具备优异的结构特征受到用户青睐。本文以皮埃路电子技术有限公司生产的高纯Sr₂IrO₄陶瓷靶材为例为大家介绍一下。

1.    陶瓷靶材制备方法：采用99.99%纯度Fe₂O₃、99.99%纯度Bi₂O₃粉末及99.99%纯度的Cr₂O₃，按化学计量比配料，球磨混合均匀，在大于800度下通过常压烧结制备靶材。

2.    陶瓷靶材规格：单一结构相；直径20至50毫米，厚度3至6毫米，价格³2千元。

有关高纯陶瓷靶材的详细介绍大致如上所述，如有想要购买氧化物高纯陶瓷溅射靶材的客户，欢迎咨询皮埃路电子技术有限公司。皮埃路电子自成立以来始终秉承客户至上，质量至上的理念，根据客户的要求，生产稳定可靠的靶材产皮埃路电子技术有限公司是南京政府321项目资助的高科技公司，由新加坡南洋理工大学、南京理工大学、南京航空航天大学和南京大学的几位教授负责技术指导。我们乐意为您定制高纯、高密度的溅射靶材，方便大家进一步通过磁控溅射及脉冲激光沉积（PLD）系统制备高质量的薄膜。

如果您希望研究一种目前尚未存在的单晶薄膜，您可以自己设计组分，我们会为您量身定做专用的氧化物陶瓷靶材、也可以组织专家学提供薄膜生长方面的建议。我们也可以通过的磁控溅射或PLD为您定做相应的薄膜，甚至进行XRD和SEM、AFM检测。在您提出需求和签订合同之后，我们将在3-5周内为您提供专用的高质量靶材。我们的每个靶材的原材料纯度都保证在99.9%以上，部分靶材的原材料纯度可以实现99.99%。另外靶材价格是由原材料和加工难度决定的，具体费用请拨打吸顶悬浮的电话联系咨询！