氧化铟锡(ITO，或者掺锡氧化铟)是一种铟（III族）氧化物(In2O3) 和锡（IV族）氧化物(SnO2)的混合物，通常质量比为90%In2O3，10% SnO2。如何选择ITO靶材厂家，ITO靶材的价格又如何对于很多人来说，都不是非常清楚。那么南京皮埃路电子技术有限公司就给大家介绍下高ITO靶材的价格趋势。

ITO它在薄膜状时，透明，略显茶色。氧化铟锡主要的特性是其电学传导和光学透明的组合。然而，薄膜沉积中需要作出妥协，因为高浓度电荷载流子将会增加材料的电导率，但会降低它的透明度。氧化铟锡薄膜最通常是物理气相沉积、或者一些溅射沉积技术的方法沉积到表面。因此氧化铟锡薄膜质量的好坏和靶材的质量具有密切的相关性。

靶材是高速荷能粒子轰击的目标材料，不同的靶材可以得到不同的膜系，靶材按照化学成分不同可分为：金属靶材、氧化物靶材等。化学式中含有多种金属离子和氧离子的化合物即复杂氧化物，比如：FTO、LaMnO3、SrTiO3、PbTiO3、ZTO、IZO、BaTiO3、LSMO、IGZO、LiFePO4、Bi2FeCrO6、Sr3Al2O6、La2MnNiO6、LSCO、YBCO、Y3Fe5O12、BiLaTi3O12、BiTiHfO12、BiTiNbO12等等。

  

本文以南京皮埃路电子技术有限公司生产的ITO陶瓷靶材为例为大家介绍一下陶瓷靶材工艺。

1.     陶瓷靶材制备方法：采用百分之99.9纯度In2O3、百分之99.99纯度SnO2，按化学计量比配料，球磨混合均匀，在大于1300度下通过常压烧结制备靶材。

    2.    陶瓷靶材规格：单一结构相；直径20至50毫米，厚度3至6毫米，价格≥3千元。

想要购买氧化物陶瓷溅射靶材的客户欢迎咨询皮埃路电子技术有限公司。

皮埃路电子自成立以来，始终秉承客户至上，质量至上的理念，根据客户的要求生产稳定可靠的靶材产品。皮埃路电子技术有限公司是南京政府321项目资助的高科技公司，由新加坡南洋理工大学、南京理工大学、南京航空航天大学和南京大学的几位教授负责技术指导。我们乐意为您定制高纯、高密度的溅射靶材，方便您进一步通过磁控溅射、脉冲激光沉积（PLD）系统制备高质量的薄膜。

如果您希望研究一种目前尚未存在的单晶薄膜，您可以自己设计组分，我们会为您量身定做专用的氧化物陶瓷靶材、也可以组织专家学者提供薄膜生长方面的建议。我们也可以通过磁控溅射或PLD为您定做相应的薄膜，甚至进行XRD、SEM和AFM检测。在您提出需求和签订合同之后，我们将在3-5周内为您提供专用的高质量靶材。我们的每个靶材的原材料纯度都保证在百分之99.9以上，部分靶材的原材料纯度可以实现百分之99.99。靶材价格是由原材料和加工难度决定的，具体费用请拨打吸顶悬浮的电话联系咨询！