关于PLD靶材，如何进行选择，大家了解吗？下面由专注于PLD靶材研发生产的南京皮埃路电子技术有限公司总结了相关的内容与大家分享。并且给大家介绍一下PLD靶材哪家强。

脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition, PLD）技术是近年来发展起来的使用范围广、有广阔前景的制膜技术。PLD靶材的质量是生长高质量薄膜的重要影响因素。

首先，我们需要了解PLD靶材溅射的原理，然后便可通过该技术手段制备出所需的薄膜。PLD是将脉冲激光器所产生的高功率脉冲激光聚焦于靶材表面，使其表面产生高温及烧蚀，并进一步产生高于10000度的等离子体。等离子体定向局域膨胀在基片上沉积成膜。激光轰击的目标材料即靶材，因此选用高质量靶材对后期制备薄膜的性质及性能的影响巨大。PLD靶材薄膜的主要应用领域包括光伏发电、存储器、探测器等领域。

  

常见的PLD靶材组分有NiFe2O4、NiZnFeO、PbFeNbO3、PbLaTiO3、PbZrTiO3、PrCaMnO3、La2CuO4、LiMnO2、LiNbO3、LuMnO3、MgAl2O4、MgCaO2、MnCoNiO4、NaCrO4、NdGaO3、NiFe2O4、PbMgNbO3、PbLaTiO3、PrMnO3、PrSrMnO3、ScMnO3、Sr3Ru2O7、SrTiO3、SrMnO3和YAlO3等。

本文以皮埃路电子技术有限公司生产的SrMnO3组分的PLD靶材为例，为大家具体讲述它的参数规格和制备方法。

1.陶瓷靶材制备方法：采用百分之99.95纯度SrCO3、百分之99.99纯度 MnO2粉末，按化学计量比配料，球磨混合均匀，在大于1500度下通过固相烧结制备靶材。

2.陶瓷靶材规格：单一结构相；直径20至50毫米，厚度3至6毫米，价格≥2千元。

想要购买PLD靶材的客户，欢迎咨询皮埃路电子技术有限公司。

皮埃路电子自成立以来，始终秉承客户至上，质量至上的理念，根据客户的要求生产稳定可靠的靶材产品。皮埃路电子技术有限公司是南京政府321项目资助的高科技公司，由新加坡南洋理工大学、南京理工大学、南京航空航天大学和南京大学的几位教授负责技术指导。我们乐意为您定制高纯、高密度的溅射靶材，方便您进一步通过磁控溅射、脉冲激光沉积（PLD）系统制备高质量的薄膜。

如果您希望研究一种目前尚未存在的单晶薄膜，您可以自己设计组分，我们会为您量身定做专用的高纯溅射靶材、也可以组织专家学提供薄膜生长方面的建议。我们也可以通过的磁控溅射或PLD为您定做相应的薄膜，甚至进行XRD、SEM和AFM检测。在您提出需求和签订合同之后，我们将在3-5周内为您提供专用的高质量靶材。我们的每个靶材的原材料纯度都保证在百分之99.9以上，部分靶材的原材料纯度可以实现百分之99.99。靶材价格是由原材料和加工难度决定的，具体费用请拨打吸顶悬浮的电话联系咨询！