高纯热蒸发源是制备高性能薄膜的前提条件，而高纯度的原材料更是重中之重，因此选择高质量的靶材具有重要意义。大家在选择高纯热蒸发源的时候，一定要找比较靠谱的高纯热蒸发源厂家，高纯热蒸发源哪家好？
首先给大家介绍一下什么是蒸发镀膜？蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，形成薄膜。将蒸发物质如金属、合金、化合物等置于坩埚内或者挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间，并与源和基片的距离有关。蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比，具有较高的沉积速率，可镀制单质和不易热分解的化合物膜。
常见的高纯热蒸发源有：W、C、Cu、Mo、Cr、In、Ta、Nb、BN、SiC、ZnO 、ZnS、ZnSe、TiN、ZrC、AlF3、KF、ITO、TiO2、SiO2、Fe2O3、Al2O3、Gd2O3等。
本文以皮埃路电子技术有限公司生产的高纯钽颗粒（Ta）为例为大家介绍一下热蒸发源材料的具体指标。
1.高纯铂颗粒的物理性质：颜色蓝灰色，密度为16.6g/cm3，熔点为2996℃，沸点为5429℃。
2.高纯铂颗粒的产品规格：蒸发温度为2860℃，常规尺寸：1-10mm，可按客户的要求定制。
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皮埃路电子自成立以来，始终秉承客户至上，质量至上的理念，根据客户的要求生产稳定可靠靶材产品。皮埃路电子技术有限公司是南京政府321项目资助的高科技公司，由新加坡南洋理工大学、南京理工大学、南京航空航天大学和南京大学的几位教授负责技术指导。我们乐意为您定制高纯、高密度的溅射靶材，方便您进一步通过磁控溅射、脉冲激光沉积（PLD）系统制备高质量的薄膜。
如果您希望研究一种目前尚未存在的单晶薄膜，您可以自己设计组分，我们会为您量身定做专用的高纯溅射靶材、也可以组织专家学提供薄膜生长方面的建议。我们也可以通过的磁控溅射或PLD为您定做相应的薄膜，甚至进行XRD、SEM和AFM检测。在您提出需求和签订合同之后，我们将在3-5周内为您提供专用的高质量靶材。我们的每个靶材的原材料纯度都保证在百分之99.9以上，部分靶材的原材料纯度可以实现百分之99.99。靶材价格是由原材料和加工难度决定的，具体费用请拨打吸顶悬浮的电话联系咨询！
