高纯陶瓷靶是制备薄膜时使用的源材料，广泛应用于溅射镀膜、脉冲激光沉积等技术中。大家在选购高纯陶瓷靶的时候，要考虑的因素有很多，例如高纯陶瓷靶的质量，价格等等。下面专注于靶材生产的南京皮埃路电子技术有限公司给大家介绍一下高纯陶瓷靶厂家排名。
根据材料种类不同，靶材可分为金属靶材、陶瓷靶材和合金靶材；根据形状不同，可分为板状、管状、线状和棒状等。陶瓷靶材的制备一般要经过粉末制备、粉末成形、烧结与切割加工等几个工艺步骤，其中粉末成形是关键步骤，现阶段应用的主要成形技术有干法成形和湿法成形等。
靶材的质量对所制备薄膜的质量有着重要的影响，其纯度和致密度要达到一定要求才能制得适用于研究的高质量薄膜，否则会使薄膜中混有杂质和缺陷，影响薄膜的性能。目前国内有多个厂家生产陶瓷靶材，但质量也是良莠不齐，并非所有厂家都能生产性价比高的高纯陶瓷靶。目前各公司所生产的陶瓷靶包括：TiO2、In2O3、SrCoO3、SrRuO3、SrZrO3、SrTiO3、ZnMnO3、ZnSnO3、LuMnO3、LiNbO3、LsSrNiO3、LaPbSrMnO3、SmSrMnO3、NdSrMnO3、HoMnO3、DyBaCo2O6等。
本文以皮埃路电子技术有限公司生产的SrRuO3陶瓷靶材为例，为大家具体讲述高纯靶材的制备方法和规格参数。
1. 陶瓷靶材制备方法：采用百分之99.95纯度SrCO3、百分之99.9或百分之99.99纯度 RuO2粉末, 按化学计量比配料，球磨5至8小时后混合均匀，在大于1100度通过热压烧结制备陶瓷靶材。
2. 陶瓷靶材规格：单一结构相；直径20至50毫米，厚度3至6毫米，Ru是贵金属，高质量的SrRuO3靶材价格通常在3500元及以上，而不含贵金属元素的普通靶材通常在2000元及以上。
如有想要购买高纯靶材的客户，欢迎咨询皮埃路电子技术有限公司。
皮埃路电子自成立以来，始终秉承客户至上，质量至上的理念，根据客户的要求生产稳定可靠的靶材产品。皮埃路电子技术有限公司是南京政府321项目资助的高科技公司，由新加坡南洋理工大学、南京理工大学、南京航空航天大学和南京大学的几位教授负责技术指导。我们乐意为您定制高纯、高密度的溅射靶材，方便您进一步通过磁控溅射、脉冲激光沉积（PLD）系统制备高质量的薄膜。
如果您希望研究一种目前尚未存在的单晶薄膜，您可以自己设计组分，我们会为您量身定做专用的氧化物陶瓷靶材、也可以组织专家学提供薄膜生长方面的建议。我们也可以通过的磁控溅射或PLD为您定做相应的薄膜，甚至进行XRD、SEM和AFM检测。在您提出需求和签订合同之后，我们将在3-5周内为您提供专用的高质量靶材。我们的每个靶材的原材料纯度都保证在百分之99.9以上，部分靶材的原材料纯度可以实现百分之99.99。靶材价格是由原材料和加工难度决定的，具体费用请拨打吸顶悬浮的电话联系咨询！
