国内靶材行业起步较晚，但经过多年的科技攻关和产业化应用，目前国内高纯溅射靶材生产企业已经逐渐突破关键技术门槛，突破了零的局面，拥有部分产品的规模化生产能力，可以预见未来会达到高速发展时期。高品质靶材公司有哪些？高品质靶材是如何使用的？

薄膜材料是厚度介于单原子到几毫米间的材料，可应用于电子功能器件、光学器件等重要领域，对推动社会发展有着重大意义，是研发和生产的前沿领域。高品质靶材是制备出良好薄膜的前提条件。

使用高能束轰击靶材，使原子在基片上沉积、形核形成薄膜是常见的薄膜制备技术。靶材在此过程中起到重要的作用，所以靶材的品质也是研发人员应当关注的点。靶材的质量由化学计量比、纯度、致密度及制作工艺等因素决定。由于薄膜材料发展迅速，现在可生产靶材的公司也如雨后春笋般涌现，但掌握核心制作工艺、能够生产高品质靶材的公司并不多。市场上高质量的靶材主要包括：LaTiO3、InMnO3、PbTiO3、PrCoO3、Sc2O3、ScMnO3、BiLaTiO3、HoMnO3、BiSmFeO3、InGaZnO4、PrBa2Cu3O7、SmBaCu3O7、LaZnMnO3、Li3PO4、LuMnO3等。

1.陶瓷靶材制备方法：采用百分之99.99纯度TiO2、百分之99.99纯度 Bi2O3、百分之99.99纯度 La2O3粉末, 按化学计量比配料，球磨5至8小时后混合均匀，在大于900度下通过常压烧结制备靶材。

2.陶瓷靶材规格：单一结构相；直径20至50毫米，厚度3至6毫米，Bi3.25La0.75Ti3O12靶材价格通常在2500元及以上。

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